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[IT뉴스]저스템, 'K-HERO 육성' 국책과제 선정

온카뱅크관리자

2025-10-14 10:07:30

<div id="layerTranslateNotice" style="display:none;"></div> ‘K-HERO 지원사업’ 중 ‘글로벌 선도연구소 육성’ 부문 선정 
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 (지디넷코리아=전화평 기자)반도체 장비 전문기업 저스템이 과학기술정보통신부와 한국산업기술진흥협회가 주관하는 ‘K-HERO 육성·지원사업’ 중 가장 큰 규모로 지원되는 ‘글로벌 선도연구소 육성’ 사업부문에 선정됐다고 14일 밝혔다.
 저스템은 상기지원사업에서 ‘고집적 반도체 웨이퍼 수율 향상을 위한 EFEM고도화 기술개발’을 주제로 과제를 수행한다.
 ‘K-HERO 육성 지원사업’은 국가전략기술분야에서 우수 R&amp;D 역량을 보유한 기업연구소를 발굴해 중점 지원하는 국책사업으로 이 중 ‘글로벌 선도연구소 육성사업’ 은 세계 최고, 최초의 기술력 확보가 목표인 기업연구소를 지원하는 프로그램이다. 저스템은 이번에 상기 과제 수행으로 총 31억5천만원을 지원받게 된다.
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 <img alt="경기 용인시에 위치한 저스템 본사.(사진=저스템)" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202510/14/ZDNetKorea/20251014100313620odgi.jpg" data-org-width="600" dmcf-mid="XwUSZn2XNv" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img1.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202510/14/ZDNetKorea/20251014100313620odgi.jpg" width="658">
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 경기 용인시에 위치한 저스템 본사.(사진=저스템)
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 저스템이 수행할 과제는 웨이퍼의 수율 향상을 위해 반도체 제조 공정장비인 EFEM(Equipment Front End Module)을 고도화하는 기술개발이다. 반도체 제조공정에서 수율 향상은 필수적인 과제인데 최근 회로가 극도로 미세화 됨에 따라 습도제어를 통한 수율 향상은 HBM시대에 이르러 더욱 필수불가결한 공정이슈가 되고 있다. 레거시공정 뿐만 아니라 초미세 공정에서 미세한 습도나 오염물까지도 수율에 치명적인 영향을 미치기 때문이다.
 저스템은 반도체 생산 공정에서 발생하는 습도 문제를 해결하는 습도 제어 솔루션 전문기업이다. 1세대 솔루션인 N2 LPM(Load Port Module)은 세계 시장 점유율 1위를 차지하고 있고 3년여의 연구개발 끝에 세계 최초로 개발한 2세대 제품 JFS(Justem Flow Straightener)도 현재 HBM 생산라인을 포함, 주요 글로벌 반도체 기업에 공급되고 있다.
 이같은 선행 기술과 글로벌 시장에서의 성공이력을 바탕으로 이번 평가에서도 기술개발계획, 상용화계획, 파급효과 등 여러 지표에서 평가를 받아 과제 주관사로 선정됐다. 저스템은 이번 과제를 통해 공동연구개발기관인 명지대, 특허법인 명신과 협력해 2028년까지 반도체공정 습도제어관련 시제품 4종을 개발해 출시할 예정이다.
 저스템은 매년 매출액의 10% 이상을 연구개발에 투자하고, 전체 직원의 30%가 연구개발에 종사하고 있다. 회사가 보유한 특허는 총 340여 건에 달한다. 저스템은 2023년에는 중소기업 최초로 과기부로부터 ‘최우수 기업부설연구소’로 지정됐으며, 2024년에는 우리나라 최고의 산업기술상인 장영실상을 수상한 바 있다.
 박태서 저스템 부사장은 “저스템의 기술역량을 국가에서 인정해 준 것으로 생각한다” 며 “본 과제 수행으로 관련 반도체 장비산업의 국가 기술력과 경쟁력이 한단계 성장하길 기대한다”고 말했다.
 전화평 기자(peace201@zdnet.co.kr)
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