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[IT뉴스]그래핀스퀘어, 차세대반도체 극자외선 공정 핵심 ‘펠리클’ 성능 개선

온카뱅크관리자

2025-12-09 16:27:29

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        <div class="article_view" data-translation-body="true" data-tiara-layer="article_body" data-tiara-action-name="본문이미지확대_클릭"> 
         <section dmcf-sid="FEP0XVqFvP">
          <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="b729f19829147c3c55f41994e37c10ab151d2336089e989afc53fc53ff485369" dmcf-pid="3DQpZfB3W6" dmcf-ptype="figure">
           <p class="link_figure"><img alt="그래핀 EUV 펠리클 (사진 제공=그래핀스퀘어)" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202512/09/joongang/20251209162249917sjxu.jpg" data-org-width="454" dmcf-mid="t6ezFP2uWQ" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img4.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202512/09/joongang/20251209162249917sjxu.jpg" width="658"></p>
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            그래핀 EUV 펠리클 (사진 제공=그래핀스퀘어)
           </figcaption>
          </figure>
          <p contents-hash="fc01ec5cf69344d8c1430d4b925027b9ffe5a6947f99c06a4210e77907951e7a" dmcf-pid="0wxU54b0S8" dmcf-ptype="general"> 국내 벤처기업인 그래핀스퀘어(대표 홍병희)와 단국대학교 신소재공학과 우윤성 교수 및 포스텍 공동연구팀이 차세대반도체 극자외선(EUV) 공정 핵심부품인 펠리클에 그래핀을 적용, 획기적으로 성능을 개선한 결과를 세계적인 학술지인 ‘어드밴스드 펑셔널 머티리얼스(Advanced Functional Materials)’에 온라인 공개했다. </p>
          <p contents-hash="fb2a1a35d9a7868a68b1ad818f7e74ab15fd92dba3da39e955b2cf8c41371c76" dmcf-pid="pHkQ2aJ6W4" dmcf-ptype="general">서울대 화학부 교수이자 차세대융합기술원 그래핀연구센터장인 홍병희 대표이사가 2012년 창업한 그래핀스퀘어(주)는 화학기상증착법(CVD)을 이용한 대면적 그래핀의 상용화 분야를 선도하고 있는 토종 벤처기업이다. 지난 2021년 본격적인 제조생산을 위해 포항으로 본사를 옮긴 후 지난 11월 18일에는 세계최초 CVD그래핀 양산공장을 준공했다. </p>
          <p contents-hash="a02d0fc868f34ba2f6d147ec94134684b6731649f6b288eaaa2a02a5b8ebb144" dmcf-pid="UXExVNiPTf" dmcf-ptype="general">EUV 펠리클은 포토 공정에서 장당 수억 원에 이르는 포토마스크를 오염원으로부터 보호하는 투명하고 얇은 덮개로 EUV 장비가 마스크의 회로 패턴을 웨이퍼에 프린팅할 때 수율을 높이기 위해 필수적이다. </p>
          <p contents-hash="77139c4b51cf15c126fbc7774f94bcdef9e5be3d6b4487dcfd27a2e128521573" dmcf-pid="uZDMfjnQSV" dmcf-ptype="general">하지만, 90% 이상의 고투과도와 기계적, 열적, 화학적 안정성을 동시에 필요로 하는 극도의 난이도로 인해 아직 본격적인 EUV펠리클 상용화는 이루어지지 못하고 있으며, 최근에는 2나노 이하 공정을 구현하기 위해 더 큰 렌즈 구경(High-NA)의 고출력 EUV 기술이 채택되면서 펠리클의 요구 성능이 더 높아지고 있다. </p>
          <p contents-hash="3c1a3538c4da37ffef5f80e7cf2e564862a7176a16f98e478eaea344ed5226da" dmcf-pid="75wR4ALxv2" dmcf-ptype="general">그래핀은 실리콘의 100배에 이르는 전자이동도뿐 아니라 이론적으로 강철의 200배에 달하는 기계적 강도와 구리의 10배에 달하는 열전도도, 높은 투과도 및 화학적 안정성으로 인해 EUV 펠리클에 적합한 소재로 주목받아 왔다. </p>
          <p contents-hash="c32b56534a588a76a947912d7547c3b92cdccd166d1faf6fea68a8beaf442cf2" dmcf-pid="z1re8coMv9" dmcf-ptype="general">공동연구팀은 이러한 그래핀을 원자층 단위로 10장까지 웨이퍼 위에 전사하는 독점적인 기술을 바탕으로 최대 94.4%의 투과도 및 기존소재(SiN) 대비 8배의 파괴하중 등 그래핀 펠리클의 성능을 증명하고 상용화에 필요한 스케일업 가능성까지 확인했다. </p>
          <p contents-hash="eb743518e2325c8c7a756a6c76f7cc041cbb1e701446eb9c9c35686967ae2e6e" dmcf-pid="qtmd6kgRWK" dmcf-ptype="general">그래핀스퀘어 연구팀은 2026년 안에 96% 이상의 투과도를 달성하고 고객사와 신뢰성 검증에 착수하여 2027년부터 실제 EUV 양산공정에 적용할 계획이다. </p>
          <p contents-hash="00b3ecafc39844904dc87b015227ea3be77ffe9ef74590161d97ffeb0b2fa8e8" dmcf-pid="BFsJPEaeTb" dmcf-ptype="general">공동연구팀을 이끈 단국대 우윤성 교수(전 삼성종합기술원)는 “꿈의 신소재라 불리는 그래핀의 놀라운 특성들이 복합적으로 적용된 EUV펠리클이 상용화된다면 반도체 초미세공정의 글로벌 우위를 점할 수 있을 것”이라고 말했다. </p>
          <p contents-hash="0e3e7982dbeb026c8070432dbec379839270ff5ba3eb6a859b38756f0ae45987" dmcf-pid="b3OiQDNdvB" dmcf-ptype="general">그래핀스퀘어 홍병희 대표는 “앞으로 그래핀의 놀라운 특성들은 반도체분야 뿐 아니라 가전, 모빌리티, 에너지, 바이오 등 우리나라 주력산업 분야에 적용돼 글로벌 경쟁력을 강화시킬 것”이라며 “중국, 유럽연합 등과의 그래핀 기술개발 경쟁이 치열해지는 가운데, 앞으로 2~3년이 그래핀 시장 선점을 위한 골든타임이 될 것”이라고 밝혔다. </p>
          <p contents-hash="a648ce81d3b38736c7571ce74db0b369d279f87d8fbe7aeadcfffd87a31749b0" dmcf-pid="K0InxwjJhq" dmcf-ptype="general">한아름 인턴기자 han.areum2@joongang.co.kr</p>
         </section> 
        </div> 
        <p class="" data-translation="true">Copyright © 중앙일보. 무단전재 및 재배포 금지.</p>

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